| 硬质涂层镀膜技术研讨盛会成功举办 |
| 文章作者 admin , 日期2017-05-24 19:48:00, 访问 105次 |
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为了加强镀膜行业交流，增强行业知识，促进镀膜行业朋友感情，共同畅谈寻膜问艺创未来！为了探讨镀膜发展方向，提高硬质涂层工艺制作、讨论新技术应用需求、膜层应用特色、市场需求方向、促进国内外同行切磋提升！
2016年5月21日至22日，由深圳市真空学会主办，深圳市新材料行业协会与中国科学院深圳先进技术研究院等单位协办的“石硬质涂层专题技术研讨会”（以下简称“研讨会”）于中国科学院深圳先进技术研究院隆重举行。研讨会邀请到中南大学余志明教授、兰州化学物理研究所张广安博士等相关领域等十多位专家参加，吸引了来自韩国、日本、英国、德国、加拿大、瑞士、比利时，台湾，香港，华南地区、华东地区、华西地区、华北等地区的相关企业及科研院所400余位代表参与此次会议。
研讨会现场，陈利副教授、杨会生教授就“硬质合金刀削刀具用PVD涂层”、“等离子体环境对膜层生长的作用”等十大报告作了专题分享（附表），并现场就科研院所、企业家对镀膜设备、制造、材料及应用答疑解惑。
据了解，硬质涂层的市场随着加工技术的更高要求而不断扩大，在国内也具有越来越大的市场。硬质涂层在工具上的应用按照市场占有量的划分主要为：刀具涂层70％，模具涂层25％，零部件涂层5％。硬质涂层技术主要有阴极电弧离子镀技术和磁控溅射技术。电弧技术和磁控溅射技术的区别主要为：电弧技术可以获得接近90％的离化率和较快的沉积速率，但存在液滴的问题；磁控溅射技术可以获得平整的表面，但离化率和沉积速率都相对较低。
目前，两种技术都在不断向前发展。磁控溅射技术也在不断进展，闭合磁场非平衡磁控溅射技术能够大幅度提高离化率，成为磁控溅射膜层质量提升的关键。随着中频孪生磁控技术和非平衡磁控溅射技术的结合，磁控溅射技术已经能够获得与电弧技术相当的优质膜层。
未来随着工业需求的不断增加，对硬质涂层的要求也将愈发严格。对科研专家及行业内企业也将是重大挑战。
